Park XE15 仕様
スキャナ
Z スキャナ
フレクチャーガイド式高力スキャナ
スキャン範囲：12 µm（オプションにて25 µm）
ハイト（高さ）ノイズレベル： 50 pm
(RMS, 帯域幅にて0.5 kHz )
XY スキャナ
クローズドループ制御付きシングルモジュールのフレクチャー式XYスキャナ
スキャン範囲：100 µm × 100 µm
ステージ
Zステージ駆動距離：25 mm（電動）
フォーカスステージ駆動範囲：20 mm（電動）
オプションの高精度エンコーダーでXY位置の再現性を実現
XYステージ駆動範囲：150 mm x 150 mm（電動）
サンプル
サイズ：最大 150 mm × 150 mmのオープンスペース、 厚さ最大20 mmまで（オプションにて 200 mm）
重量 :< 500 g
光学系
10x (0.28 NA) ウルトラロングワーキングディスタンスレンズ（分解能：1µm）
サンプル表面とカンチレバーの直上観察対物レンズ
視野：480 × 360 µm（10x対物レンズ使用の場合）
CCDピクセル：1 Mピクセル, 5 M ピクセル（オプション)
ソフトウェア
SmartScan™
AFMシステム制御、およびデータ取得ソフトウェア
フィードバックパラメーターをリアルタイムに調整
外部プログラムによるスクリプトレベルの制御（オプション）
XEI
AFMデータ解析ソフトウェア（Windows, MacOS X, and Linux対応）
エレクトロニクス
高性能DSP：600MHzで4800MIPS
最大16枚の画像データ
最大データサイズ：4096 × 4096 ピクセル
信号入力： 16ビットADC 20チャンネル、500kHzサンプリング時
信号出力：16ビットDAC 21チャネル、500kHzセトリング
同期信号：画像終端、線終端、画素終端のTTL信号
アクティブQコントロール（オプション）
カンチレバーバネ定数校正（オプション）
CE規格適合
電源：120 W
信号アクセスモジュール（オプション）
力測定*
フォースディスタンス（F/d）スペクトルスコピー
フォースボリュームイメージング
誘電・圧電特性*
静電気力顕微鏡（EFM）
ダイナミックコンタクトEFM（EFM-DC）
圧電応答力顕微鏡（PFM）
高電圧PFM
機械特性*
フォースモジュレーション顕微鏡（FMM）
ナノインデンテーション
ナノリソグラフィー
高電圧ナノリソグラフィー
ナノマニピュレーション
磁気特性*
磁気力顕微鏡（MFM）
電気特性*
コンダクティブAFM（C-AFM）
IVスペクトルスコピー
ケルビンプローブフォース顕微鏡（KPFM）
高電圧KPFM
走査型キャパシタンス顕微鏡（SCM）
走査型拡がり抵抗顕微鏡（SSRM）
走査型トンネリング顕微鏡（STM）
フォトカレントマッピング（PCM）
化学特性*
化学力顕微鏡（機能化チップ付）
EC-AFM
AFMオプション
温度制御
温度制御ステージ 1
25 °C ~ +170 °C
温度制御ステージ 2
常温 ~ +250 °C
温度制御ステージ 3
常温 ~ +600 °C
液体セル
ユニバーサル液体セル
液体/気体灌流によるオープンまたはクローズド液体セル
温度制御範囲：0 °C ~ +110 °C （大気中）、 4 °C ~ +70 °C（液中）
電気化学用セル
液中プローブハンド
一般的な液体環境でのイメージングに適した設計
酸を含むほとんどの緩衝液に耐性あり
液体中のコンタクト・ノンコンタクトAFMイメージング
電動ステージ用エンコーダ
•エンコードされたXYステージは、1 µmの分解能で2 µmの繰り返し精度で移動します。
•エンコードされたZステージは、0.1 μmの分解能で1 μmの再現性で移動します。
外形寸法図（単位：mm）
