Park NX-Hivac
故障解析アプリケーションに適した真空環境スキャニング
故障解析担当エンジニアは、Park NX-Hivac型AFMにより真空SSRM計測の感度と分解能を向上できます。真空中で測定することにより更に高い精度と優れた再現性が得られ、またプローブ先端と試料間のダメージも大気中やN2環境よりも軽減されるので、ユーザーはこの故障解析アプリケーションで広範囲のドーパント濃度と優れた信号応答で計測が可能になります。
Technical Note: AFM Failure AnalysisTechnical Note: Better in Vacuum
真空環境でSSRM計測を行うことにより、チップ-試料間の力を小さくしてチップ及び試料の両方のダメージを大幅に削減できます。これにより、それぞれのチップ寿命を伸ばすことで、測定のコストと運用効率を向上させることができ、また同時に、空間分解能とS/N比も改善できる為にもっと正確な測定結果を得ることができます。したがって、NX-Hivac型を使用した真空SSRM計測は故障解析エンジニアに彼らのスループットを向上させ、コストを削減と精度を改善するという素晴らしい選択を与えてくれます。
Park Hivac Manager
NX-Hivac自動真空制御
Hivacマネージャーの制御により、最適な真空状態までのポンピングと排気プロセスが、ワンボタン操作だけで論理的及び視覚的に制御されます。それぞれの工程は色と図式の変化により視覚的にモニタリングができるので、ワンボタン操作の後は真空操作の手順について心配の必要がありません。より高速で簡単な真空制御ソフトウエアにより、真空AFMにおける操作の簡便性と高い生産性が実現されました。
進化した自動化機能
NX-Hivac型はユーザーの入力パラメータを最小にした装置です。その為に、ユーザーはより速いスキャンを行い研究のスループットを上げることができます。
電 動ステージによるStepScan自動計測
StepScanでは、ユーザーが複数のエリアのイメージングが行えるように、装置に素早く且つ簡単にプログラムが行えます。NX-Hivac型では、スキャン、カンチレバーのリフト、ユーザーの設定した座標まで電動ステージの移動、アプローチをする及び繰り返す、というわずか5ステップでスキャンを行えます。これにより、生産性を非常に向上させると同時にユーザーの入力を最小限にします。
電 動レーザー アライメント
Park社の電動レーザービームアライメント機構により、ユーザーの入力無しでそのまま自動計測ルーティンを継続できます。Park社の最先端のプリアラインされたカンチレバーホルダーを使用することで、交換されたカンチレバー上にレーザービームがフォーカスされます。それから電動ポジションノブによってレーザースポットは、X及びY軸方向に沿って最適化されます。
精度と生産性の向上
NX-Hivac型は世界で最も正確且つ高性能なAFMの1台でありながら、同時に、故障解析において最も操作が簡単で利便性の高いAFMの一台です。Park NX-Hivacにより、生産性と測定結果の確実性による信頼性を向上できます。
ク ローズド ループ ＸＹスキャナとＺスキャナ
試料走査用クローズドループXYスキャナとプローブ走査用クローズドループZスキャナが分離している為に、非常に正確にスキャンを行うことができます。NX-Hivac型は、ボウイングエラーが小さく平坦且つ直交動作のXYスキャナにより、全スキャン範囲において1nm未満の平坦動作が可能です。NX-Hivac型は、15μmのスキャンレンジで0.5%のノンリニアリティのZスキャナを装備します。これにより、ユーザーがソフトウエアによる画像処理をしなくても、正確な2D及び3D測定が行えます。
低 ノイズXYZ位置センサー
NX-Hivac型は、低ノイズXYスキャナによりその往復スキャンにおいて0.15%という最小誤差の性能を持つと同時に、Park AFMが業界をリードする低ノイズZ検出器を装備し、正確な試料形状の計測が行えます。
24ビット デジタル エレクトロニクス
NX-Hivac型は、トレードマ―クのNXシリーズ コントローラにより不必要な時間を最小にして、正確性を最大にすることができます。このコントローラは、ノンコンタクトモードを含む広範囲な計測モードを可能にした、全デジタル制御の24ビット高速デバイスです。低ノイズ設計と高速処理機構により、ナノスケール イメージングと同様に高分解能による電圧及び電流計測も可能です。内蔵エレクトロニクスのデジタル処理機能により、計測データや画像データを簡単に解析できます。
Park NX-Hivac仕様
スキャナ
Z スキャナ
フレクチャーガイド式高力スキャナ
スキャン範囲：15 µm（オプションにて30 µm）
ハイト（高さ）ノイズレベル： 30 pm
0.5 kHz bandwidth, rms (typical)
XY スキャナ
デュアルサーボ・クローズドループ制御のシングルモジュール・フレクチャー式XYスキャナー
スキャン範囲 ： 50 µm × 50 µm
（オプションにて100 µm × 100 µm）
ステージ
Zステージ駆動距離：24 mm（電動）
フォーカスステージ駆動範囲：11 mm（電動）
XYステージ駆動範囲：: 22 mm x 22 mm（電動）
サンプル
サイズ：最大50 mm x 50 mmのオープンスペース、厚さ最大20 mmまで
重量 :< 500 g
光学系
10x (0.23 N.A.) ウルトラロングワーキングディスタンスレンズ（分解能：1µm）
サンプル表面とカンチレバーの直上観察対物レンズ
視野：840 × 630 µm（10x対物レンズ使用の場合）
CCDピクセル：5 Mピクセル
物理情報
内部真空チャンバー：300 mm x 420 mm x 320 mm外部真空 (グラナイト＆ポンプを含む)：800 mm x 950 mm x 1240 mm
真空
真空レベル：1 x 10-5torr以下
真空引きスピード：10-5torr/5分以内
ソフトウェア
SmartScan™
AFMシステム制御、およびデータ取得ソフトウェア
フィードバックパラメーターをリアルタイムに調整
外部プログラムによるスクリプトレベルの制御（オプション）
XEI
AFMデータ解析ソフトウェア
Hivac Manager
自動真空制御ソフトウェア
エレクトロニクス
内蔵機能
デジタルロックインアンプ4チャンネル
バネ定数キャリブレーション (サーマル方式、オプション)
デジタルQコントロール
外部信号アクセス
組込み信号入出力20ポート
TTL出力5系統：EOF, EOL, EOP, モジュレーション、ACバイアス
力測定
フォースディスタンス（F/d）スペクトルスコピー
フォースボリュームイメージング
誘電・圧電特性
静電気力顕微鏡（EFM）
ダイナミックコンタクトEFM(EFM-DC)
圧電応答力顕微鏡（PFM）
高電圧PFM*
機械特性
フォースモジュレーション顕微鏡（FMM）
ナノインデンテーション*
ナノリソグラフィー*
ナノマニピュレーション*
磁気特性*
磁気力顕微鏡（MFM）
電気特性
コンダクティブAFM（C-AFM）*
IVスペクトルスコピー*
ケルビンプローブフォース顕微鏡（KPFM）
走査型キャパシタンス顕微鏡（SCM）*
走査型拡がり抵抗顕微鏡（SSRM）*
走査型トンネリング顕微鏡（STM）*
フォトカレントマッピング（PCM）*
化学特性*
化学力顕微鏡（機能化チップ付）
EC-AFM
製品イメージ
