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  • Park
    NX10
    AFM 仕様

Park NX10 仕様

スキャナ

Z スキャナ

フレクチャーガイド式高力スキャナ

スキャン範囲:5 µm (オプションにて30 µm)
ハイト(高さ)ノイズレベル:  30 pm
0.5 kHz bandwidth, rms (typical)

XY スキャナ

クローズドループ制御付きシングルモジュールのフレクチャー式XYスキャナ

スキャン範囲 : 50 µm × 50 µm
(オプションにて10 µm x 10 µm、もしくは100 µm x 100 µm)

 

ステージ

Zステージ駆動距離:25 mm (電動)
フォーカスステージ駆動範囲:15 mm (電動)
XYステージ駆動範囲:20 mm x 20 mm (電動)

 

サンプル

サイズ:最大100mm×100mmのオープンスペース、 厚さ最大20 mmまで
重量 : 500 g

 

光学系

10x (0.23 N.A.) ウルトラロングワーキングディスタンスレンズ(分解能:1µm)
サンプル表面とカンチレバーの直上観察対物レンズ
視野:480 µm × 360 µm(10x対物レンズ使用の場合)
CCDピクセル:1 Mピクセル, 5 M ピクセル(オプション)

 

ソフトウェア

SmartScan™

AFMシステム制御、およびデータ取得ソフトウェア
すばやいセットアップと簡単なイメージングのための自動モード
よりエキスパートな用途と詳細なスキャン制御のためのマニュアルモード

XEI

AFMデータ解析ソフトウェア

 

エレクトロニクス

内蔵機能

デジタルロックインアンプ4チャンネル
バネ定数キャリブレーション (サーマル方式、オプション)
デジタルQコントロール

外部信号アクセス

組込み信号入出力20ポート
TTL出力5系統:EOF, EOL, EOP, モジュレーション、ACバイアス

 

AFMモード
(*オプションにて可能)

スタンダードイメージング

真のノンコンタクト™ AFM
PinPoint™ AFM
コンタクトAFM
水平力顕微鏡(LFM)
位相イメージング
タッピングAFM

力測定

フォースディスタンス(F/d)スペクトルスコピー
フォースボリュームイメージング

誘電・圧電特性

静電気力顕微鏡(EFM)
ダイナミックコンタクトEFM(EFM-DC)
圧電応答力顕微鏡(PFM)
高電圧PFM*

機械特性

フォースモジュレーション顕微鏡(FMM)
ナノインデンテーション*
ナノリソグラフィー*
高電圧ナノリソグラフィー*
ナノマニピュレーション*

磁気特性*

磁気力顕微鏡(MFM)
チューナブルMFM

 

電気特性

コンダクティブAFM(C-AFM)*
IVスペクトルスコピー*
ケルビンプローブフォース顕微鏡(KPFM)
走査型キャパシタンス顕微鏡(SCM)*
走査型拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)*
走査型トンネリング顕微鏡(STM)*
フォトカレントマッピング(PCM)*

化学特性*

化学力顕微鏡(機能化チップ付)
EC-AFM

 

AFMオプション

温度制御

温度制御ステージ 1
-25 °C ~ +170 °C
温度制御ステージ 2
常温 ~ +250 °C
温度制御ステージ 3
常温 ~ +600 °C

液体セル

ユニバーサル液体セル
液体/気体灌流によるオープンまたはクローズド液体セル
温度制御範囲:0 °C ~ +110 °C (大気中)、 4 °C ~ +70 °C(液中)
電気化学用セル
オープン液体セル

液中プローブハンド

一般的な液体環境でのイメージングに適した設計
酸を含むほとんどの緩衝液に耐性あり
液体中のコンタクト・ノンコンタクトAFMイメージング

磁界発生装置

サンプル表面に平行な外部磁界を印加
チューナブル磁場
レンジ:-300 ~ 300 gauss
純鉄コアと2つのソレノイドコイルで構成

 

外形寸法図(単位:mm)

nx10 sys demension nx10 ae demension